Peralatan Salutan Sputtering Plasma Vakum Tinggi: Peralatan Teras Yang Membolehkan Metalisasi Substrat Seramik DPC

Peralatan Salutan substrat Seramik Semikonduktor Mengamalkan Prinsip Plasma Medan Elektrik Vakum Yang Tinggi, Menyuntik Sedikit Gas Argon Ke Dalam Rongga Tertutup, Dan Mengionkannya ke Dalam Aliran Argon Di Bawah. Ion argon Bertenaga tinggi ini Akane DiPercePatkan Dan Membombardir Bahan Sasaran Ke Arah, Supaya Atom-atom di Permuka Bahan Sasaran "Dipancarkan" Dan Disimpan Secara Di Permujaan Seramikan Seramikan Seramikan Seramikan Seramikan Seramikan Seramikan Seramikan Seramikan Seramikan Seramikan Seramikan Seramikan Seramikan Seramikan Seramikan Seramikan Seramikan Seramikan Seramikan Tembaga Dengan Struktur Padat Dan Lekatan Yang Kuat.
Peralatan Salutan substrat Seramik Semikonduktor Adalah Pra-Pautan Utama Dalam Teknologi Substrat Seramik DPC, Meletakkan Asas Yang Kukuh Unuk Pembuatan Litan Berikutnya, Pemahan Grafik Dan Integrasi Fungsional. Melalui Pemendapan Lapisan Logam Ketepatan Tinggi, Substrat Seramik Bukan Sahaja Mencapai Kekonduksian Yang Sangat Baikah, Tetapi Juga Mempunyai Kestabilan Terma Yang SEPERTI KOMUNIKASI 5G, ELEKTRONIK AUTOMOTIF, DAN MODUL KUASA UNTUK PRESTASI SUBSTRAT.
Proses Semasa Pemendapan Lapisan Logam, Sebarang Kekotoran Akan OLEH ITU, Peralatan INI DILENGKAPI DENGAN SISITEM PEMBUNGKUSAN VAKUM Yang Tinggi, Dan Ijazah Vakum Boleh Mencapai Tahap 10 ⁻⁵. Melalui Hubungan Pam Molekul Kecekapan Tinggi Dan Pam Mekanikal Untuk Ekzos, Struktur Pengedap Pelbagai Lapisan, Gas Kebocoran Dicegah, Dinding Dalaman Dan Tiada Reaksi Pengoksidaan, Dengan Demikian Adalah Lebih Baik Dan Tongk Dapat Diperbaiki. Substrat Seramik Untuk Peranti Berkuasa Tinggi Dengan Keperluan Yang Sangat Tinggi Untuk Kesucian Dan Konsistensi.
Peralatan ini Mengamalkan Sistem Sumber Plasma Yang Dikawal Ketepatan, Yang Secara Automatik Boleh Menyesuaikan Mengikut Bahan Sasaran Yang Berbeza, Keteaman Sasaran, Bentuk Dan Kedudukan substrat. Strukur sumber ion apa yang sentang dikawal ini dapat dapate dan sputtering Yang lebih seragam atom, memastikan keseragaman ketahane -jibanya -slapaStan jeLyan -jeLyan -jeLulySiStan Komposy -kepimpane -praMukaSiStan KomposyStan KomposyStik KomposyStan KomposyStan KomposyStan Komposy -kepimpaneSiStan Komposan Komposit -jomp. Yang Sangat Sesuai untuk Pengeluaran Stabil Bersaiz Besar Atau Seramik Berbentuk Khas.
Untuk memenuhi keperluan pemprosesan pelanggan untuk substrat Seramik spesifikasi yang berbobeza, peralan salutan Seramik semikonduktor Mengamalkan reka bentuk struktur, janyiko jurantan muJANTAN MUNGANTAN MUNGANTAN MUNGANTAN MUNGANTAN MUNGANTAN MUNGANTAN MUNGANTAN MUNGANTAN MUNGANTAN MUNGANTAN MUNGANTAN MUNGANTAN MUNGANTAN MUNGANTAN MUNGANTAN MUNGANTAN MUNGANTAN MUNGANTAN MUNGANTAN LEOLATAN LEAGOLA Susun Atur Selari Dwi-Stesen Atik Pelbagai Rongga.
Sistem Kawalan Boleh Menetapkan Pelbagami Parameter Proses Dan Cepat Menukar Kelompok Produk. Strukur ini Bukan Sahaja Meningkatkan Fleksibiliti Penggunaan Peralatan, Tetapi Juga Mengurangkan Masa Pelarasan Mesin Dan Kos Intervensi Manual Apabila Menukar Model Produk. Ia SANGAT SESUAI UNTUK OEM, Pengeluaran Percubaan Penyelidikan Saintifik Dan Persekitaran Pengeluaran Yang Serasi Dan Selari Pengeluaran Secara Besar -Besaran.
Semikonduktor substrat Seramik Salutan Salutan Sistem Bekalan Kuasa Mengadakan Logik Kawalan Penjimatan Tenaga Kekuatan Tinggi Kekuatt Pada masa yang, ia mempunyai mekanisme pengoptimum berhenti-henti Dan Siap sedia automatik, Pelarasan Kuasa Automatik Selepas Penstabilan Proses, Dan Mengurangkan Penggunaan Tenaga Yang Berlebihan. Konfigurasi Pilihan Pelbagai Rongga Boleh Mencapai Pengeluaran Berterusan 24 Jam Tanpa Gangguan. Ia Amat Sesuai untuk Pelanguare Besar -Besaran Seramik Yang Sensitif Terhadap Penggunaan Tenaga Outpas KUASA.